而兰斯麦的光刻机中有11个反光镜，也就是说光源要经过11次反射后才能到达晶圆，在晶圆上刻线，最终仅能剩余2%的光线能量，所以对光源发射功率要求较大。
研发难点第三是掩膜台。掩膜台的作用就是承载掩膜板运动的部件，它的运动是纳米级别的，运动精度在2纳米左右，要用什么样的控制设备才能使掩膜台的运动控制在2纳米以内，这就需要精加工的支持。
现在只有镜头和掩膜台难以达到要求，通过测算良品率太低，难以形成规模性量产，而且只是勉强达到5纳米。
张冲志与各项目组专家一台台看过去，随着他的提问，相关专家介绍该处零都件的生产工艺，所使用到的材料，到最后达到的性能。
其实这三台光刻机都是采用夏盛公司现在所能找到的最好材料和设备制造的，基本就不计成本。
在张冲志的研讨过程中，黑星的十二根探索丝上下飞舞，将每台光刻机的零部件按装置尺寸全扫描下来，并同时形成纳米级的3d立体图，它现在的性能比一年前又强悍了许多，扫描测量尺寸达到1纳米。
张冲志的研讨时间与黑星的扫描时间相配合，三台光刻机用了一个多小时研讨完成，在走向会议室的路上，黑星就将三台光刻机的评估结果给作了出来。
中间那台质量最好，可以支持2纳米芯片的光刻机，其它两台只能达到5纳米的光刻机精度了，看来夏盛公司的装配工艺还有待提高。
最好的方法是采用智能自动化装配，可现在还难以达到。
在会议室中，张冲志又听取了一些各方面专家的意见，大部分人都脸上露出愁容。
光刻机的确是工业上的明珠，集各项最高技术于一身，一项加工技术或材料不到位，就影响到整台光刻机的制造，真是牵一而发动全身。
坐在主位上，与cE0余向东对视了一眼，余向东大声说道：“请大家安静下来，
位。
“各位领导，各位专家好，通过现场查看和与各位的交流，我很佩服大家。
特别是朱宇教授领导的双工作平台研发，在这十个月内竟将掩膜台的移动从1.5纳米，减少到标准的1纳米，这是一个重大的进步，为我们的光刻机加工精度达到2纳米，甚至1纳米打下了坚实的基础。”
说完他带头鼓起掌来，
张冲志接着说：“我们现在已经完成了95%以上的工作，这余下的5%我有信心在半月内走完。
另外我根据现场勘查，我想将原来定的目标稍微改动一下，将原来三台光刻机的加工精度都是5纳米，改为中间一台加工精度为2纳米，两边两台保持5纳米。”
他这话一说完，下边应刻“轰”地一下象爆炸了一样。
几乎所有人的脸上都露出难以置信的样子。
自己这些人还在担心5纳米光刻机能不能造出来，他竟然要造2纳米的，这可能吗？
张冲志等接着说：“我为什么要将中间这台光刻机改为2纳米，因为它的装配工艺最好，而且使用朱宇教授的1纳米双加工平台，只加工5纳米的芯片太浪费了。
我们现在最大问题，是对于镜头的加工制造，我将带领镜头团队的人在10天内解决，同时，在2纳米反射镜中将采用0.55NA的材料。
我们整个公司自成立以来，各位都在默默地奉献，我们就要做一件轰动世界的大事，我们要让光刻机成为夏盛麒麟公司的骄傲，开创我们轩辕电子工业的新篇章。
但是，今天这次会议事关重大，任何人不得向外泄露一个字，公司会选择适当的时候公布！”
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